公司参加第十五届全国薄膜技术学术研讨会(TFC19)

发布时间:2019-11-22
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      2019年11月15-18日,由中国真空学会薄膜专业委员会主办,浙江大学承办的第十五届全国薄膜技术学术研讨会(TFC19)在浙江省杭州市隆重举行。此次研讨会吸引了来自全国各地高校、科研院所、企业单位的百余位专家学者参加。新葡的京首頁(以下简称“公司”)董事长苏东艺先生、董事彭继华教授及运营总监梁献文先生带队参加了此次学术研讨会。
第十五届全国薄膜技术学术研讨会合影
      全国薄膜技术学术研讨会议是中国真空学会薄膜专业委员会的重要学术活动之一, 宗旨是推动我国薄膜技术领域的学术交流与合作,提高创新能力,推动相关产业的发展。
      此次学术研讨会主要围绕:1、当代薄膜科学与技术的展望;2、薄膜物理理论与技术基础;3、薄膜设计、仿真与模拟;4、薄膜制备技术;5、薄膜测试与分析;6、薄膜新技术、新材料;7、薄膜技术新装备;8、薄膜技术应用与产业化等8个主题领域,进行了11场大会特邀报告、69场分会口头报告。其中最为突出的为中国真空学会薄膜专业委员会主任暨清华大学潘峰教授作出的《移动通讯滤波材料与器件技术》报告,潘教授带领其研发团队花了二十年时间针对移动通讯滤波材料与器件技术进行项目研究,从基础理论到具体实践,并实现大规模的产业化应用。
      公司研发中心研究生袁良川、韦宇冲代表公司作出的《CVD制备石墨烯薄膜的工艺条件对其中C-Hn存在的影响》论文入选《第十五届全国薄膜技术学术研讨会摘要集》。
      此次研讨会展示了国内真空薄膜与涂层技术领域最新动态,结合薄膜材料技术及其交叉领域内的热点问题,展开了广泛的学术探讨和技术交流,将进一步促进国内薄膜相关技术的深入研发,给一线行业提供理论支持和未来发展方向,以推动薄膜技术行业领域发展和产业化。
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